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原子沉積系統(tǒng)ALD

簡(jiǎn)要描述:*原子沉積系統(tǒng)ALD,源于*的技術(shù)。是一種能以原子級(jí)精度將薄膜覆蓋沉積到各種基底上的方法??梢愿鶕?jù)客戶不用的應(yīng)用選擇不同的配置,價(jià)格優(yōu),性能好。

  • 產(chǎn)品型號(hào):IPS
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-05-21
  • 訪  問  量:4520

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原子沉積系統(tǒng)ALD

標(biāo)準(zhǔn)型(Standard )設(shè)備

價(jià)格低、質(zhì)量高、可任選附件進(jìn)行搭配

結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便,后期維護(hù)簡(jiǎn)單易行

用途廣,適合各種基底材料

原子沉積系統(tǒng)ALD ——擴(kuò)展型(Flexivol)設(shè)備

腔室體積可根據(jù)用戶樣品的尺寸靈活調(diào)節(jié),同一腔室可通過簡(jiǎn)單的調(diào)節(jié)適用于不同厚度的樣品

增多前驅(qū)體源入口數(shù)目,避免腔室體積增大對(duì)前驅(qū)體化學(xué)源氣氛分布的影響

ALD原子層沉積系統(tǒng)——高度定制化(Non-Standard)設(shè)備

為工業(yè)客戶提供薄膜沉積方案

放大基于標(biāo)準(zhǔn)研究型設(shè)備檢驗(yàn)的相同技術(shù)

根據(jù)客戶的特殊需求,加工定制,滿足特殊應(yīng)用及大規(guī)模的生產(chǎn)需要

研發(fā)(R&D)服務(wù)

開發(fā)新的薄膜沉積方案

診斷、改進(jìn)現(xiàn)有ALD的工藝

為潛在的客戶做覆膜演示

薄膜沉積工藝咨詢

原子層沉積系統(tǒng)ALD技術(shù)參數(shù)

不銹鋼材質(zhì)腔室,根據(jù)客戶樣品尺寸有不同的腔室直徑(D < 200 mm, D = 200 mm, D > 200 mm)和高度(H = 20 mm, H = 50 mm)可選;前驅(qū)體進(jìn)樣系統(tǒng)標(biāo)配四路(包含冷和熱兩種前軀體),可配至八路

前驅(qū)體進(jìn)樣系統(tǒng)配有快速氣動(dòng)閥門

多段溫度控制

前驅(qū)體溫控0-200 °C,精度1 °C

腔室溫控0-300 °C ,精度1 °C

進(jìn)出腔室管路溫控0-150 °C ,精度1 °C

基本壓強(qiáng) 10^−1/10^−3 mbar

設(shè)備尺寸 1000x600x1000 mm

觸控控制系統(tǒng)

系統(tǒng)當(dāng)前狀態(tài)信息顯示:氣流速度、溫度、壓力和閥門開度等

工藝監(jiān)控:溫度和壓力等

偏差報(bào)警和安全鎖

菜單操作,實(shí)時(shí)監(jiān)控

可增配選項(xiàng)

等離子體發(fā)生器    借助等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來增強(qiáng)ALD性能

臭氧發(fā)生器         提供強(qiáng)氧化劑,增大ALD生長(zhǎng)的前驅(qū)體選擇范圍

石英晶體微天平    在線監(jiān)測(cè)薄膜沉積的厚度

愛譜斯中國(guó)有限公司是一家專業(yè)儀器制造及銷售公司,公司業(yè)務(wù)主要為進(jìn)口儀器設(shè)備,涉及化學(xué),材料,環(huán)境,生命科學(xué)等各個(gè)學(xué)科。公司始終把客戶的需求與產(chǎn)品質(zhì)量放在*,專業(yè)的售后服務(wù)團(tuán)隊(duì),歡迎廣大客戶咨詢!

 

 

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